光催化设备

   光催化材料是光催化设备中重要的材料。光催化材料采用原位烧结技术制备，均匀负载泡沫镍、泡沫陶瓷和蜂窝陶瓷上的纳米二氧化钛，具有表面积大、附着力强、催化活性高的特点。光催化部分使用254nm紫外线灯刺激光源，刺激电子（e-）跳到导带，产生相应的孔（h+）、氧负离子和羟基自由基*氧化、各种挥发性有机化合物、非甲烷总烃、臭氧化分解成无害二氧化碳和H2O，达到分解有害有机化合物的目的。在紫外线照射下，光催化材料继续释放自由基，具有主动攻击功能，无变化，活性长。

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